Атомно слоевое осаждение (ALD)
Наша компания имеет многолетний опыт разработки оборудования и технологий, в том числе и по методу атомно-слоевого осаждения (Atomic layer deposition – ALD).
Компания получила грант (Фонд содействия развитию малых форм предприятий в научно-технической сфере, www.fasie.ru) и вложила собственные средства в разработку лабораторного и промышленного оборудования.
Понимая специфику каждого конкретного заказа, мы готовы на базе собственных наработок спроектировать, разработать и поставить оборудование и технологию как для исследовательских целей, так и для серийного производства.
Более подробная информация в презентации и по запросу.
Также, в случае необходимости, мы можем предложить сервис по нанесению некоторых покрытий (более подробная информация по запросу).
Основные примеры применения покрытий
• барьерные слои для стекла
• пассивация и герметичные барьерные покрытия для пластика и металлов, универсальной электроники
• самоочищающееся стекло и керамика
• биосовместимые покрытия
• энергосберегающие, прозрачные проводящие оксиды, фотоэлектрические элементы
• покрытия, предотвращающие потускнение серебра
• оптические покрытия линз
• трибологические высокоточные покрытия.
Краткая справка по методу атомно-слоевого осаждения ALD
По мере перехода к наноразмерным топологическим нормам в микро- и оптоэлектронике, солнечной энергетике, сенсорной техники все более сказываются ограничения традиционных технологий – химического осаждения из газовой фазы (CVD) и физического из паровой (PVD). Новый альтернативный способ – атомно-слоевое осаждение (ALD) не только обладает технологическими преимуществами, но и дает продукт – тонкие пленки – нового, более высокого качества.
